Volfram silitsiid
Volfram silitsiid
Volframisilitsiidi WSi2 kasutatakse mikroelektroonikas elektrišokimaterjalina, polüsilikoontraatide manööverdamisel, oksüdatsioonivastase katte ja takistustraadi kattekihina.Mikroelektroonikas kasutatakse kontaktmaterjalina volframisilitsiidi, mille eritakistus on 60-80μΩcm.See moodustub temperatuuril 1000 ° C.Tavaliselt kasutatakse seda polüräniliinide šuntina, et suurendada selle juhtivust ja suurendada signaali kiirust.Volframisilitsiidi kihti saab valmistada keemilise aur-sadestamise, näiteks aur-sadestamise teel.Toorainegaasina kasutada monosilaani või diklorosilaani ja volframheksafluoriidi.Sadestunud kile on mittestöhhiomeetriline ja vajab lõõmutamist, et muuta see juhtivamaks stöhhiomeetriliseks vormiks.
Volframisilitsiid võib asendada varasema volframkile.Volframisilitsiidi kasutatakse ka tõkkekihina räni ja teiste metallide vahel.
Volframislitsiid on väga väärtuslik ka mikroelektromehaanilistes süsteemides, mille hulgas kasutatakse volframislitsiidi peamiselt õhukese kilena mikroskeemide valmistamisel.Sel eesmärgil saab volframisilitsiidkilet plasmasöövitada, kasutades näiteks silitsiid.
| ITEM | Keemiline koostis | |||||
| Element | W | C | P | Fe | S | Si |
| Sisu (massi%) | 76.22 | 0,01 | 0,001 | 0.12 | 0,004 | Tasakaal |
Rich Special Materials on spetsialiseerunud pihustusobjektide tootmisele ja võib vastavalt klientide spetsifikatsioonidele toota volframisilitsiidi pihustusmaterjale.Lisateabe saamiseks võtke meiega ühendust.
