Kaasaegsetes hoonetes hakati kasutama suuri klaasvalgustusalasid.See aspekt annab meile heledamad ruumid ja laiema silmaringi.Teisest küljest on läbi klaasi läbiv soojus palju suurem kui ümbritsevad seinad ning kogu hoone energiatarve suureneb oluliselt.
Võrreldes enam kui 90% madala kiirgusega klaasi kasutusmääraga arenenud riikides, on madala energiasisaldusega klaasi läbitung Hiinas vaid umbes 12% ja Hiinal on veel palju arenguruumi. tavaline klaas ja võrguühenduseta madala energiatasemega klaas, võrguühenduseta LowE klaasi tootmiskulud on kõrged, mis piirab teatud määral kasutamist. Kodumaistel klaasitöötlemisettevõtetel on kohustus pidevalt vähendada pinnakattetoodete tootmiskulusid, kiirendada rakendamist, säästa energiat, parandada keskkonda ja saavutada sotsiaalne jätkusuutlik areng.
1、Sihtmärgi kuju mõju
Suurtel pindadel kasutatakse sageli sihtmaterjali vastavalt kujule, sealhulgas tasapinnalisele orientatsioonile ja pöörlemissuunale.Üldised tasapinnalised sihtmärgid hõlmavad vasest sihtmärki, hõbedast sihtmärki,Ni-Cr sihtmärk ja grafiitmärk.Üldisel pöörleval sihtmärgil on tsink-alumiinium-, tsink-tina-, räni-alumiinium-, tina-, titaanoksiid-, tsinkoksiid-alumiinium- ja nii edasi. Sihtmärgi kuju mõjutab magnetroni pihustuskatte stabiilsust ja kile omadusi ning kasutamist. sihtmäär on väga kõrge.Pärast sihtmärgi kuju planeerimise muutmist saab katte kvaliteeti ja tootmisvõimsust parandada ning kulusid kokku hoida.
2、Suhtelise tiheduse ja sihtmärgi kliirensi mõju
Suhteline tihedus sihtmärgis on praktilise tiheduse ja sihtmärgi teoreetilise tiheduse suhe, üksikkomponendi sihtmärgi teoreetiline tihedus on kristalli tihedus ja sulami või segu sihtmärgi teoreetiline tihedus arvutatakse vastavalt teoreetilisele. iga elemendi tihedus ja osakaal sulamis või segus..Termopihusti sihiku paigutus on poorne, suure hapnikusisaldusega (isegi vaakumpihustuse korral on oksiidide ja lämmastikühendite teke sulami sihtmärgis vältimatu) ning välimus on hall ja sellel puudub metalliline läige.Adsorbeeritud lisandid ja niiskus on peamised saasteallikad.
3、Sihtosakeste suuruse ja kristalli suuna mõju
Sama kaaluga sihtmärgi puhul on väikese osakese suurusega sihtmärk kiirem kui suure osakese suurusega sihtmärk.Seda eelkõige seetõttu, et pritsmeprotsessis on osakeste piirile kerge tungida, mida suurem on osakeste piir, seda kiiremini tekib kile.Osakeste suurus ei mõjuta ainult pihustuskiirust, vaid mõjutab ka kile moodustumise kvaliteeti. Näiteks EowE toodete tootmisprotsessis toimib NCr infrapunast peegeldava kihi Ag hoolduskihina ja selle kvaliteet mõjutab oluliselt kattetooted.NiCr-kilekihi suure ekstinktsiooniteguri tõttu on see üldiselt õhuke (umbes 3 nm). Kui osakeste suurus on liiga suur, lüheneb pihustusaeg, halveneb kilekihi tihedus, Ag-kihi hooldusefekt. väheneb ja tekib kattetoodete oksüdatsioonikiht.
järeldus
Sihtmaterjali kuju planeerimine mõjutab peamiselt sihtmaterjali kasutusmäära.Mõistliku suuruse planeerimine võib parandada sihtmaterjali kasutusmäära ja säästa kulusid. Mida väiksem on osakeste suurus, seda suurem on katmiskiirus, seda parem on ühtlus.Mida suurem on puhtus ja tihedus, seda madalam on poorsus, seda parem on kile kvaliteet ja seda väiksem on räbu heidete vähenemise tõenäosus.
Postitusaeg: 27. aprill 2022